真空硬化炉

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高温の乾燥温度で材料から水分を急速に除去します。-特に製薬、食品、生物製品産業に適しており、熱に敏感な成分の活性を効果的に保護し、高温での分解や不活性化を防ぎます。-
カテゴリー
真空乾燥炉
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説明
 
 
真空硬化オーブン特徴

 

01/

高温の乾燥温度で材料から水分を急速に除去します。-特に製薬、食品、生物製品産業に適しており、熱に敏感な成分の活性を効果的に保護し、高温での分解や不活性化を防ぎます。-

02/

真空レベルと真空チャンバーの内部寸法は、お客様の要件に合わせてカスタマイズできます。

03/

従来の乾燥方法と比較してエネルギー消費量が少なく、企業の運営コストを効果的に削減します。

04/

内容積24L、91L、216L、512Lの標準モデルを複数用意しております。

05/

特殊な加熱技術を採用し、材料を均一に加熱し、乾燥ムラを防ぎます。

06/

高品質の真空ポンプを搭載。-真空レベルを計器パネルに表示できます。

 

 

真空硬化炉仕様s

 

 

 

モデル

HS002ZK

HS010ZK

HS020ZK

パフォーマンス

温度範囲

RT+20度 -200度

温度変動

±1度

温度分解能

0.1度

仕様

作業室寸法(mm)

300×300×270

450x450x450

600×600×600

外形寸法周囲(mm)

510×400×480

660×700×1480

810×800×1780

コンテンツ量

24L

91L

216L

電力(KW)

0.9KW

2.5KW

3.5KW

電源

220V 50HZ

ステンレス棚2枚

配置

構造的

一体型のコントロールパネルは装置の前面に配置されています。

外装材

静電両面スプレーを施した冷間圧延鋼板-。-

内部材質

高品質のステンレス鋼板

絶縁

グラスファイバー

温度センサー

Pt100プラチナ抵抗

ヒータ

ニクロム電気ヒーター

レギュレーションモード

自然対流循環により温度バランスが保たれます

温度画面

測定温度と設定温度をLEDでデジタル表示

真空システム

真空

133Pa

真空システム

直結式ロータリーベーン真空ポンプ。-真空補助部品、真空センサー、電磁弁などの国産高品質デバイス-

圧力制御と表示

アナログ圧力計

真空圧力デジタル表示、調整可能

備考

内寸と外寸はD×W×Hとして表記されています。

デバイスの推奨使用条件:周囲温度5度-+30度、周囲湿度:85%RH以下。

上記のデータは無負荷条件下で測定されたものです。{0}

 

真空硬化オーブン 利点

-25 年間の試験機器メーカーによるハイテク企業認定。

22,691平方メートルの自社工場敷地。

全工程を社内で-生産しています。{1}

ワンストップのテスト ソリューション プロバイダ。-

ISO 9001:2015、ISO 14001:2015、ISO 45001:2018認証工場です。

大量注文はさらに低価格になります。

もちろん少量MOQも可能です。

 

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当社のサービス

 

 

3D 設計レビュー: 大型またはカスタマイズされた乾燥オーブンの場合、契約締結後 7 日以内にレビュー用の設計図を提供します。審査が承認され次第、制作を開始いたします。

12か月の無料保証と24時間オンラインサービス。

出荷前に製品の画像とビデオを利用できます。

製品の性能は工場出荷前にテストされており、工場検査レポートを提供できます。

生涯にわたる技術サポート。

 

私たちのパートナーであり名誉です

 

 

logo

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よくある質問

 

 

Q: この装置はどの程度の真空レベルを達成できますか?どのくらいかかりますか?

A: 真空度1Paまでの到達が可能で、通常の真空装置の効率をはるかに上回る60分以内の急速到達が可能です。

 

Q: 加熱均一性はどうですか?加工に適した製品は何ですか?

A: パーティション加熱技術を使用しており、±3 度の温度均一性を実現しているため、チップや半導体コンポーネントなどの温度に敏感な製品に特に適しています。-

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